佳能光刻机突破2nm制程佳能光刻机有什么新突破

2024-01-07 15:56:48 编辑：阙琼梦来源：

导读佳能半导体机器业务部最近发布公告称，佳能采用纳米压印技术的光刻机已经有望生产2nm芯片，而且生产成本会降到传统光刻机的一半左右。近日...

佳能半导体机器业务部最近发布公告称，佳能采用纳米压印技术的光刻机已经有望生产2nm芯片，而且生产成本会降到传统光刻机的一半左右。近日，荷兰光刻机制造商Amsl宣布向英特尔交付了全球首台高数值孔径的集紫外线光刻机系统，该系统支持两纳米制程工艺以及以下的芯片制造，紧接着佳能便发布公告称有望生产两纳米制程芯片，此举仿佛要在声势上与asml大摆擂台。

佳能首席执行官御手洗富士夫在接受记者采访时表示，纳米压印技术将给小型半导体制造商生产先进芯片带来一条全新的道路。从而让先进芯片生产不再是少数半导体龙头企业的专利，不过现在并没有相关企业向佳能发出意向，佳能公司目前急需一个具有代表性的客户。

两纳米制程工艺芯片领域中，Asml和佳能他们拿出了两种截然不同的技术路径，自从1958年美国德克萨斯公司使用光刻技术打造世界上第一块平面集成电路以来，光刻技术已经支撑半导体领域长达60多年的发展，Asml作为全球光刻机领域的巨头，基于深厚的技术积累和长久的发展惯性。接连推出了高数值孔径以及极紫外光刻机技术，而且通过提升光刻机数值孔径，增强了芯片的制造精度以及稳定性，让光刻技术能够成功延续到两纳米以及以下制程的应用中。

佳能公司在该领域另辟蹊径，尝纳米压印技数来制术来制造两纳米的芯片，岩本和德对此介绍称，纳米压印光刻技术将成为半导体电路图掩模压印的一个重要技术，只需要一次压印，就可以在合适的位置上形成一个复杂的二维或者三维电路图。如果合适的话甚至能生产出电路线为两纳米的产品，这种技术也不同于传统投影的光刻技术，更像一种印刷的技术。