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国产手机突破7nm芯片 到底用了什么魔法

2023-09-07 17:02:05 编辑:陆香璧 来源:
导读 近日,华为推出了mate 60 Pro机型,这款机型搭载了麒麟9000s处理器,该处理器的最新跑分情况目前已经出炉。从跑分软件读取的数据和第三方...

近日,华为推出了mate 60 Pro机型,这款机型搭载了麒麟9000s处理器,该处理器的最新跑分情况目前已经出炉从跑分软件读取的数据和第三方拆解报告的线索来看,麒麟9000s是一颗七纳米工艺的芯片,该芯片的生产地明显标注着中国大陆,然而能够生产七纳米芯片的euv光刻机早在2019年就已经宣布对中国进行出口管制。中国的芯片代工企业只能获得性能更低的duv光刻机,而且该光刻机设备的出口管制政策仍旧在不断的收紧中,那么华为的这颗七纳米制程芯片究竟如何生产出来的,华为在这颗芯片上究竟用了哪些魔法。

专业人士分析,七纳米制程工艺的麒麟9000s芯片的出现很有可能是有两种因素,第一种是国产euv光刻机实现了突破,第二种原因是芯片制造商在duv工艺上采用了特殊工艺,另辟蹊径生产出了七纳米工艺的芯片,从客观情况上来看,第二种推测的可能性要远高于第一种。

此前媒体报道过,我国如今在半导体生产行业中不单纯缺乏光刻机,而且还缺乏相关的配套设施和基础研究方面的技术突破,即便我们的Euv光刻机成功研发出来,但是想要应用在商用领域上还是需要很长时间的沉淀才能完成的事情,并不是这一两年就可以做到的。

另外一个观点认为华为的麒麟9000S芯片是通过Duv光刻机改善工艺生产出来的,按常理说普通的duv光刻机很难生产出七纳米制程芯片。但是事实上已经有人做到了这一点,Duv光刻机生产出的七纳米芯片实际上是利用193纳米光源的光刻机生产做到的,Duv光刻机的光源波长虽然是193纳米。但是这个光源在水中会发生折射,让整个波长变短,所以根据这个原理,早在1987年就有人提出了浸没式光刻,通过在晶体表面和透镜之间增加一层超纯水,这样就可以让紫外光折射从而实现波长的降低。


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