不用光刻机如何去制造5nm芯片

2023-10-24 16:13:26 编辑：浦江裕来源：

导读 10月23日消息，芯片圈最近又传来一则大新闻，那就是佳能搞出了一个新的芯片制造设备，即便不用光刻技术，也能够使用该设备造出五纳米的芯片...

10月23日消息，芯片圈最近又传来一则大新闻，那就是佳能搞出了一个新的芯片制造设备，即便不用光刻技术，也能够使用该设备造出五纳米的芯片，而且这个设备再优化优化，能够达到两纳米制程工艺不是问题，这个消息传出之后让很多人都感觉到诧异。佳能公司的主业是搞相机的，怎么好端端的跑来搞制造芯片的机器，而且一出手就拿出了能制造五纳米芯片的机器。

很多人对佳能并不太了解，佳能在芯片制造设备上早就有所布局，同样在相机领域有所造诣的尼康是一个样。不过目前光刻机技术的顶尖龙头一直都被荷兰阿斯麦公司独占，佳能在光刻领域眼看追不上，于是便开始发展另外一条赛道，那就是纳米压印技术。此次这个消息已经一经曝光，很多吃瓜群众的反应都显得颇为热烈，纷纷在网上宣称光刻机要被取代，纳米压印的时代将要来临。

根据相关的资料来看，最近这些年来光刻机的发展似乎走到了瓶颈期，芯片制程的进步速度以肉眼可见的速度变慢，而如今仅有20多年发展历史的纳米压印技术，在进步速度上堪称快极，几年的时间就要赶上光刻机的进度，并且新的纳米压印技术和光刻机相比，不但在规模成本方面上降低，而且整体的制作工艺显得更加简单，在大规模应用方面要更适合一些。

更重要的是纳米压印技术的工艺非常容易，跟盖章一样的模式，只不过是迷你微缩版。首先，在刻好的电路底板上喷涂印章所需的材料，等这些材料凝固之后就是纳米压印技术的印章，然后在晶片上喷涂上一层纳米压印胶，直接拿制好的印章盖上，等待这些材料凝固脱模就可以完成。整个制作期间都不需要更换工具，一个喷头就可以搞定全部流程，期间只需要更换里面的喷涂材料。这种技术相比于复杂的euv光刻技术，显得能耗更低，工艺更简单，设备更轻便，被人们认为是最有可能替代euv光刻机的技术。